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  • 真空蒸镀基本知识(全) 2020-07-22

    真空蒸镀基本知识(全)
      真空蒸镀,简称蒸镀,是指在真空条件下,采用一定的加热蒸发方式蒸发镀膜材料(或称膜料)并使之气化,粒子飞至基片表面凝聚成膜的工艺方法。蒸镀是使用较早、用途较广泛的气相沉积技术,具有成膜方法简单、薄膜纯度和致密性高、膜结构和性能独特等优点。   蒸镀的物理过程包括:沉积材料蒸发或升华为气态粒子→气态粒子快速从蒸发源向基片表面输送→气态粒子附着在基片表面形核、长大成固体薄膜→薄膜原子重构或产生化学键合。   将基片放入真空室内,以电阻、电子束、激光等方法加热膜料,使膜料蒸发或升华,气化为具有一定能量(0.1~0.3eV)的粒子(原子、分子或原子团)。气态粒子以基本无碰撞的直线运动飞速传送至基片,到达基片表面的粒子一部分被反射,另一部分吸附在基片上并发生表面扩散,沉积原子之间产生二维碰撞,形成簇团,有的可能在表面短时停留后又蒸发。粒子簇团不断地与扩散粒子相碰撞,或吸附单粒子,或放出单粒子。此过程反复进行,当聚集的粒子数超过某一临界值时就变为稳定的核,再继续吸附扩散粒子而逐步长大,最终通过相邻稳定核的接触、合并,形成连续薄膜。
  • 影响磁控溅射均匀性的因素 2020-07-22

    影响磁控溅射均匀性的因素
      磁控溅射生成的薄膜厚度的均匀性是成膜性质的一项重要指标,因此有必要研究影响磁控溅射均匀性的因素,以更好的实现磁控溅射均匀镀膜。   简单的说磁控溅射就是在正交的电磁场中,闭合的磁场束缚电子围绕靶面做螺线运动,在运动过程中不断撞击工作气体氩气电离出大量的氩离子,氩离子在电场作用下加速轰击靶材,溅射出呈中性的靶原子(或分子)沉积在基片上成膜。所以要实现均匀的镀膜,就需要均匀的溅射出靶原子(或分子),这就要求轰击靶材的氩离子是均匀的且是均匀的轰击的。   由于氩离子在电场作用下加速轰击靶材,所以均匀轰击很大程度上依赖电场的均匀。而氩离子来源于被闭合的磁场束缚的电子在运动中不断撞击的工作气体氩气,这就要求磁场均匀和工作气体氩气均匀。但是实际的磁控溅射装置中,这些因素都是不均匀的,这就有必要研究他们不均匀对成膜均匀性的影响。
  • 引线在键合点的非颈缩点处断裂 2020-07-22

    引线在键合点的非颈缩点处断裂
      引线中间断裂不一定在早期失效中出现,因为它和内引线存在损伤的程度和由损伤诱发的机理有关。键合丝的损伤使引线损伤部位面积变小,这将导致:电流密度加大,使损伤部位易被烧毁;抗机械应力的能力降低,造成内引线损伤处断裂。产生损伤的原因,一是键合丝受到机械损伤,见图1;二是电流密度加大,个别部位被烧毁,见图2
  • 为什么选择碳化硅做器件的衬底 2020-07-22

    为什么选择碳化硅做器件的衬底
      衬底材料是氮化镓外延膜生长的基础,同时又是构成LED器件的主要组成。衬底材料表面粗糙度、热膨胀系数、热传导系数、与外延材料间晶格匹配程度等指标深刻影响着所生产高亮度LED的发光效率与稳定性。表1展示了合格的衬底材料所要考察的性能要求及其解释。   目前,常见的衬底材料有蓝宝石(Al2O3)、单晶硅和碳化硅。碳化硅具有多种晶型,可分为三大类:立方型(如3C-SiC)、六角型(如4H-SiC)和菱形(如15R-SiC),其中4H-SiC和6H-SiC主要用作氮化镓衬底。
  • 为什么ITO膜有点黄? 2020-07-22

    为什么ITO膜有点黄?
      ITO是英文Indium Tin Oxides的简写,中文意思为铟锡金属氧化物,具有很好的导电性和透明性,在显示行业中常常作为透明电极来使用,如COM ITO电极、触控电极等。   某一物质作为透明电极来使用的话,需要其具备以下条件:对于人眼可见光范围380~780nm波长的光,要有高透过率和高导电率。具体的量化指标是在550nm(绿光波长,因为人眼对绿光最敏感)波长下的透过率达80%以上,面阻抗为1000Ω/sq以下或者大于1000S/m的导电率。ITO薄膜可以符合这些要求。
  • 扫描电子显微镜(SEM)之基本知识篇 2020-07-22

    扫描电子显微镜(SEM)之基本知识篇
      扫描电子显微镜,简称为扫描电镜,英文缩写SEM(Scanning Electron Microscope)。它是用细聚焦的电子束轰击样品表面,通过电子与样品相互作用产生的二次电子、背散射电子等对样品表面或断口形貌进行观察和分析。SEM已广泛应用于材料、冶金、矿物、生物学领域。   通常人眼能够分辨的最小距离为0.2MM,为了观察分析更微小的细节,人们发明了各种观察仪器。   首先出现的是光学显微镜,它利用可见光作为照明束照射样品,再将照明束与样品的作用结果由成像放大系统处理,构成适合人眼观察的放大像。一般而言光学显微镜能分辨的最小距离约为200um,是人眼的一千倍。   为突破光学显微镜的分辨极限,人们想到用电子束做照明束,并与上个世纪三十年代制造出了第一台扫描电子显微镜。它的分辨率已经达到了原子水平(≈0.1um),比光学显微镜提高了近两千倍。
  • 金属粉末的制备方法 2020-07-22

    金属粉末的制备方法
      粉末冶金是一种制取金属粉末以及用金属(或金属与非金属混合物)粉末作为原料,经过成型和烧结获得零件制品的工艺过程。金属粉末作为工业的主要原材料,广泛地应用在机械、冶金、化工、航空航天材料领域。金属粉末是粉末冶金工业的基础原材料,它的产量、品质决定着粉末冶金工业的发展。   金属粉末通常为小于1mm的金属伟德体育登陆注册的集合体。粒度区间的划分并没有统一的规定。常用的划分方法为:伟德体育登陆注册在1000~50μm的为常规粉末;50~10μm称细粉末;10~0.5μm称极细粉末;<0.5μm称超细粉末;0.1~100nm称纳米级粉末。每一个粉末伟德体育登陆注册可能是—个晶体,也可能由许多晶体所组成的,这取决于伟德体育登陆注册大小和制备方法。
  • 磁控溅射中靶中毒是怎么回事 2020-07-22

    磁控溅射中靶中毒是怎么回事
      电子在电场的作用下加速飞向基片的过程中与氩原子发生碰撞,电离出大量的氩离子和电子,电子飞向基片。氩离子在电场的作用下加速轰击靶材,溅射出大量的靶材原子,呈中性的靶原子(或分子)沉积在基片上成膜。二次电子在加速飞向基片的过程中受到磁场洛仑磁力的影响,被束缚在靠近靶面的等离子体区域内,该区域内等离子体密度很高,二次电子在磁场的作用下围绕靶面作圆周运动,该电子的运动路径很长,在运动过程中不断的与氩原子发生碰撞电离出大量的氩离子轰击靶材,经过多次碰撞后电子的能量逐渐降低,摆脱磁力线的束缚,远离靶材,最终沉积在基片上。
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